產品特性
      NP-100系列是以水性溶劑為配方基礎所配製之顯影劑，可廣泛應用於半導體製程中正型或負型光阻之顯影製程。NP-100系列均不含二甲苯及苯類成份，具較低的溶解性，較不會造成光阻的膨脹，而有較佳的影像解析度。NP-100系列不含毒性管制物質、亦不含鈉、鉀金屬離子，可避免對半導體元件造成污染。配方中並添加界面活性劑，應用於細線寬產品可達到最好的潤濕及顯影效果。
 
製程參考條件
      使用NP-100進行光阻顯影製程時，操作的條件如時間和溫度的控制決定於光阻的種類及預烤溫度等。一般設定為20 ~ 35℃，30 ~ 300秒。
 儲存條件
      應避免日照，並儲放於陰涼通風處，低於25℃。

產品特性
      NP-200系列是以水溶性有機溶劑為配方基礎所配製之顯影劑，可廣泛應用於高階半導體製程中正型或負型光阻之顯影製程。不含二甲苯及苯類成份，具較低的溶解性，較不會造成光阻的膨脹，而有較佳的影像解析度，亦不會對金屬（如銅、鎳、鋁等）產生腐蝕性。不含毒性管制物質、亦不含鈉、鉀金屬離子，可避免對半導體元件造成污染。
 
製程參考條件
      使用NP-200系列進行光阻顯影製程時，操作的條件如時間和溫度的控制決定於光阻的種類及預烤溫度等。一般設定為20 ~ 35℃，30 ~ 300秒。
 
儲存條件
      應避免日照，並儲放於陰涼通風處，低於25℃。