产品特性
      NP-100系列是以水性溶剂为配方基础所配制之显影剂，可广泛应用於半导体制程中正型或负型光阻之显影制程。NP-100系列均不含二甲苯及苯类成份，具较低的溶解性，较不会造成光阻的膨胀，而有较佳的影像解析度。NP-100系列不含毒性管制物质、亦不含钠、钾金属离子，可避免对半导体元件造成污染。配方中并添加界面活性剂，应用於细线宽产品可达到最好的润湿及显影效果。
 
制程参考条件
      使用NP-100进行光阻显影制程时，操作的条件如时间和温度的控制决定於光阻的种类及预烤温度等。一般设定为20 ~ 35℃，30 ~ 300秒。
 储存条件
      应避免日照，并储放於阴凉通风处，低於25℃。

产品特性
      NP-200系列是以水溶性有机溶剂为配方基础所配制之显影剂，可广泛应用於高阶半导体制程中正型或负型光阻之显影制程。不含二甲苯及苯类成份，具较低的溶解性，较不会造成光阻的膨胀，而有较佳的影像解析度，亦不会对金属（如铜、镍、铝等）产生腐蚀性。不含毒性管制物质、亦不含钠、钾金属离子，可避免对半导体元件造成污染。
 
制程参考条件
      使用NP-200系列进行光阻显影制程时，操作的条件如时间和温度的控制决定於光阻的种类及预烤温度等。一般设定为20 ~ 35℃，30 ~ 300秒。
 
储存条件
      应避免日照，并储放於阴凉通风处，低於25℃。